別添
1 申請の概要
圧力容器構造規格第73条において準用する第31条に規定されたマンホール、掃除穴・検査穴を設けな
い第二種圧力容器は、規格改正前は、同規格の第47条第1項第5号により認められていましたが、規格改
正後は同項の条文が削除されています。
引続きマンホール、掃除穴・検査穴を設けない第二種圧力容器を、同規格第70条の規定に基づき承認
を受けたく、以下のとおり申請するものです。
2 認定を受けようとする第二種圧力容器
(1)種類 精製筒
(2)型式 立円筒形
(3)最高使用圧力 0.97MPa
(4)内容積 0.268m3
(5)材料 胴:SUS316TPY、鏡板:SUS316
3 精製筒の詳細
精製筒を使用している高純度ガス精製装置は、主に半導体やLCDの製造等で使用される窒素ガス・酸
素ガス・水素ガスなどに含まれている極微量の不純物を除去し、高純度ガスを供給する装置です。
(1)ユーザーにおける装置設置例
装置の上流に能力0.1μm程度のフィルター(下図のフィルターユニット)があり、ゴミなどの
混入は考えられません。
(2)精製筒の原理
ガス中の不純物の除去は、第二種圧力容器である精製筒に触媒や吸着剤を充填することで除去し
ており、筒は主に2筒(またはそれ以上)切替方式としています。一定量の不純物を除去した筒は、
加熱したガスを通気することで再生した後、再使用(切替運転)しています。
極微量の不純物を吸着剤で除去していること、及び筒を再生していることから、不純物や反応生
成物は蓄積されません。
システム詳細は添付資料「概略運転サイクル」を参照願います。
(3)高純度窒素ガス精製装置のガス純度保証値
不純物 |
精製筒入口(ppb) |
精製筒出口(ppb) |
O2 |
1000 |
0.1 |
CO |
1000 |
0.1 |
CO2 |
500 |
0.1 |
H2 |
1000 |
0.5 |
H2O |
2600 |
0.1 |
|
高純度ガスを供給する用途から、装置は高気密性(外部リークによる安全性や性能維持)やデッ
ドスペースを無くすことが必要な為、装置は溶接構造を基本としています。
3 承認を受けようとする理由
前述の通り、高純度ガスを供給する用途から、装置は高気密性やデッドスペースを無くすことが必要
なため、装置は溶接構造を基本としていること、及び次の理由により、第70条の特例として、圧力容器
構造規格改正前と同様にマンホール、掃除・検査穴を設置しない第二種圧力容器(精製筒)を御承認頂
きますようお願いします。
(1)精製筒上流に能力0.1μm程度のフィルターが設置され、ガス中の極微量不純物を、除去する用途
に用いられる。
(2)精製筒は一定時間で再生されるため、精製筒内に不純物や反応生成物が蓄積されず、錆の発生等
はないことから精製筒内の検査・掃除は不要である。
(3)日常点検及び定期自主検査における外観確認、気密検査等により、精製筒の外面からの割れ、変
形等を確認できる。